4-Acetoxystyrene
4-Acetoxystyrene
4-Acetoxystyrene мономера главным образом использована в синтезе polyhydroxystyrene. Polyhydroxystyrene является основным компонентом ФО фоторезиста, который в настоящее время является основным органом 248 Нм смолы фоторезиста. 248 Нм фоторезиста используется в основном в области микроэлектронных чипов и жидкокристаллических дисплеев,с длиной волны 248nmKrf лазер для обработки средних,широко используемого в масштабной индустриализации производства литографии.
Благодаря постоянным исследованиям и инновациям,наша компания разработать процесс промышленного производства продукции НД производят квалифицированные промышленные образцы.Это будет положительную роль в продвижении 248 Нм фоторезиста локализации.
Молекулярная формула: C10H10O2
Молекулярный Вес:162.19
Внешний вид:бесцветная прозрачная жидкость,без плавающего мусора
Точка плавления:7-8âѓ(лит.)
Точка кипения:260âƒ(лит.)
Плотность:1,06 г/мл на 25âƒ(лит.)
Температура Вспышки: 190 °С
Другие товары поставщика
|
|
4-Acetoxystyrene |
4-Acetoxystyrene
4-Acetoxystyrene мономера главным образом использована в синтезе polyhydroxystyrene. Polyhydroxystyrene является основным компоне... |
|
|
Агент загрунтовкы АКД |
Агент загрунтовкы АКД является одним из недавно разработанных продуктов в нашей компании для того, чтобы избежать таких дефектов, как медленное соз... |
|
|
Катионоактивный Агент Загрунтовкы Канифоли |
Катионоактивный Агент Загрунтовкы Канифоли
Катионные Канифольной проклейкой, в силу своего положительного заряда, может сочетаться с отрицательны... |
|
|
670-96-2 |
2-фенил-имидазол
Молекулярная Formula：C9H8N2
CAS：670-96-2
Качество Index：
1.Внешний вид: белый кристалл
2.Содержание: â¥99.0%
3.Потеря... |
|
|
100-10-7 |
4-Диметиламино бензальдегида
Молекулярная Formula：C9H11NO
CAS：100-10-7
Качество Index：
1.Возникновение: белизна к желтовато хлопь-образны... |
Все товары поставщика
Похожие товары
