4-Acetoxystyrene
4-Acetoxystyrene
4-Acetoxystyrene мономера главным образом использована в синтезе polyhydroxystyrene. Polyhydroxystyrene является основным компонентом ФО фоторезиста, который в настоящее время является основным органом 248 Нм смолы фоторезиста. 248 Нм фоторезиста используется в основном в области микроэлектронных чипов и жидкокристаллических дисплеев,с длиной волны 248nmKrf лазер для обработки средних,широко используемого в масштабной индустриализации производства литографии.
Благодаря постоянным исследованиям и инновациям,наша компания разработать процесс промышленного производства продукции НД производят квалифицированные промышленные образцы.Это будет положительную роль в продвижении 248 Нм фоторезиста локализации.
Молекулярная формула: C10H10O2
Молекулярный Вес:162.19
Внешний вид:бесцветная прозрачная жидкость,без плавающего мусора
Точка плавления:7-8âѓ(лит.)
Точка кипения:260âƒ(лит.)
Плотность:1,06 г/мл на 25âƒ(лит.)
Температура Вспышки: 190 °С
Другие товары поставщика
|
|
Solid surface sizing agent |
Solid surface sizing agent MF9800
Product features
MF9800 is a new and high efficient cross-linking of starch sizing agent for corrugated paper su... |
|
|
4-Acetoxystyrene |
4-Acetoxystyrene
4-Acetoxystyrene мономера главным образом использована в синтезе polyhydroxystyrene. Polyhydroxystyrene является основным компоне... |
|
|
Катионоактивный Агент Загрунтовкы Канифоли |
Катионоактивный Агент Загрунтовкы Канифоли
Катионные Канифольной проклейкой, в силу своего положительного заряда, может сочетаться с отрицательны... |
|
|
93-11-8 |
2-Naphthalenesulfonyl хлорид
Синонимы:2-Naphthylsulfonyl хлорид,бета-Naphthalenesulfochloride
Внешний вид:белый порошок
CAS НИКАКОЙ:93-11-8
Мол... |
|
|
Катионоактивный Агент Загрунтовкы Канифоли |
Катионоактивный Агент Загрунтовкы Канифоли
Катионные Канифольной проклейкой, в силу своего положительного заряда, может сочетаться с отрицательны... |
Все товары поставщика
Похожие товары