气压烧结炉
该气压烧结炉主要用于碳化硅、氮化硅等陶瓷制品的真空烧结和压力烧结。
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真空热压炉 | 真空热压炉广泛应用于各类复合材料、各类高导热材料、SiC/ Si3N4/B4C陶瓷类材料、铜基粉体材料、铁基粉体材料、铁铜基粉体材料等材料的零件净近成型、致密化、最高烧结温度可达2500℃。诸如：飞机降落铁铜基粉类材料刹车盘、动车组闸瓦、防弹衣、装甲车护板、直升飞机防弹盔甲等。 |
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立式真空碳化炉 | 该类型设备可设计成采用石墨作为加热体的有碳加热环境，最高温度可达1600℃以上，用于炭/炭复合材料、陶瓷基复合材料、碳纤维保温材料的高温碳化、裂解处理。也可设计成采用金属作为加热体无碳加热环境，最高温度1100℃，用于特殊材料在有氧下的脱脂、烧结等处理。 |
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卧式真空水淬炉 | 该卧式真空水淬炉主要用于钛合金固溶处理，如TC4、TC16、TC18等材料，铍青铜固溶处理；镍基、钴基高弹性合金3J1、3J21、3J53等固溶处理；核工业用材料17-4PH、410等不锈钢的固溶处理等。 |
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碳化硅氮化硅烧结炉 | 该碳化硅氮化硅烧结炉可用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。 |
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Pressure Sinter (Sinter-Hip) Furnace | DescriptionPressure sinter furnace is mainly suitable for sintering and pressure sinter processes of tungsten alloy, magnetic, heavy alloy, moly al... |
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