气压烧结炉
该气压烧结炉主要用于碳化硅、氮化硅等陶瓷制品的真空烧结和压力烧结。
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碳化硅氮化硅烧结炉 | 该碳化硅氮化硅烧结炉可用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。 |
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连续式预氧化炉 | 本连续式预氧化炉可用于PAN基、沥青基、黏胶基碳纤维及其毡体材料在可控氧化气氛下的连续预氧化处理。 |
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立式真空水淬炉 | 该立式真空水淬炉主要用于航空航天行业中的钛合金固溶处理，如TC4、TC16等材料，航空仪表弹性元件中的铍青铜固溶处理、航天传感器中的镍基、钴基高弹性合金3J1、3J21和镍基恒弹性合金3J53等精密合金固溶处理，核能领域中17-4PH、410等不锈钢的固溶处理等。 |
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钢带还原炉 | 该钢带炉主要用于铁粉、铜粉、钴粉、镍粉、钨粉、钼粉等金属粉末的还原；也可用于草酸钴、APT等金属盐类的煅烧。 |
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连续式高温石墨提纯炉 | 该连续式高温石墨提纯炉可用于石墨粉料的连续式高温提纯或石墨化处理。 |
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