全自动高真空热蒸发镀膜系统 ET-EVAP400C-1
主真空室：方形304不锈钢腔室，尺寸：400×400×450mm,前门采用全自动控制（和手套箱集成时），后门采用手动铰链结构，两门均设有观察窗。腔室预留有照明和膜厚仪等设备接口。
真空系统：复合分子泵（抽速1200L/S）+合资直联旋片泵(抽速9L/S),高真空电气联动插板阀，全自动控制。
极限真空 ：≤6×10-5Pa
抽速 ：从大气抽至9×10-4Pa≤30min（短时间暴露大气，冲入干燥氮气后开始抽气）
样品尺寸 ：抽屉式结构，承载最大小于120×120mm 样品，配日本SMC气动基片挡板，电气联动全自动控制。
运动方式
• 基片台采用磁流体密封，可升降，源与基片之间距离200~300mm连续可调；
• 基片台可连续回转，转速0~30转/分可调；
• 上述过程均为全自动控制。
加热 ：室温~300℃，日本岛电PID智能控温系统，。
蒸发源 :金属蒸发源
2组，采用水冷铜电极+蒸发舟结构
有机蒸发源
2组，采用PID温控有机束源炉，坩埚≥2CC，室温~300℃，连续可调
蒸发电源 :金属蒸发电源
电流300A，最大输出功率3KW（转换供二组交替蒸发）
有机蒸发电源
PID智能温控蒸发电源（控温精度±1℃）
膜厚控制系统
采用石英晶振膜厚控制仪，监测厚度显示范围 0-99μ9999Å
水冷系统
配备冷却水循环机，用户只需提供场地。
报警及保护系统
完善的逻辑程序互锁及保护系统，对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况报警并执行相应保护措施。
膜厚不均匀性
Φ100mm≤±5.0%
手套箱系统
手套箱箱体
箱体尺寸：1500×750×900mm
大过渡舱：¢360×600mm，小过渡舱：¢150×300mm
支架高度：950mm
气体净化系统
水氧小于1ppm
单柱净化系统
溶剂净化系统
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控制方式
PLC+PC的全自动控制
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